SEOUL, South Korea, Jan. 27, 2016 (GLOBE NEWSWIRE) -- 대한민국 서울, 2016년 1월 27일- Advanced Energy Industries, Inc. (NasdaqGM:AEIS)는 오늘 세미콘코리아 2016에서 더욱 향상된 기술을 선보일 예정입니다. 진열중인 RF전력발생기, 고전압발생기, 열처리 장치 중에서도 새롭고, 플로팅된, 양극의 고전압 발생기와 차세대 고속 고온계를 특별히 소개합니다. ULTRAVOLT® FLHV 시리즈 ESC (electrostatic chucks)의 강한 힘을 내는 고전압을 제공하고 진보된 제어기능과 모니터링뿐만 아니라 뛰어난 안정성과 신뢰성을 가진 플로팅된 (floating or isolated) 단극/양극 고전압 출력은 전체 시스템의 성능을 향상시킵니다.
HBLED 제조나 emerging III-V materials 제조에는 MOCVD 공정과 같은 증착 공정이 사용되는데, 이와같은 고난이도의 공정에서 SEKIDENKO MXE G2 고온계를 이용하여 온도와 reflectance를 고속으로 측정할 수 있습니다.
“우리의 새로운 고전압 그리고 열관련 제품들은 AE가 우리의 모든 비즈니스 영역에서 어떻게 혁신을 지속하는지를 보여주는 좋은 예입니다.” 라고Advanced Energy 사장 및 CEO인 유발 와서먼은 (Yuval Wasserman) 말했습니다. “AE는 오랫동안 반도체산업에서 -이제는 ESC (electrostatic chucks) 산업에서도-고정밀 전력발생기의 표준을 제시해왔습니다. HBLED 제조 과정에서 주로 사용되는 susceptor 의 빠른 회전 속도와 같이 고속의 측정이 요구되는 공정에서 온도와 reflectance의 정확한 측정을 가능하게 합니다. ”
Advanced Energy는 반도체와 박막공정기술을 위한 아래와 같은 모든 제품군을 진열할 예정이다.
넓은 반도체 공정 범위를 가능케하고 3D, IC, VNAND 및 차세대 소자 구조에 유연성과 적응성을 제공하는 RF 발생기
초청결 반도체 응용 분야에서 적합하도록 고안된 원격 플라즈마 소스를 이용하면 주요 플라즈마 기반 처리 공정에서 소자의 손상을 줄이고 처리량을 높이며 수율을 높일 수 있습니다.
고전압 전원 공급 장치는 반도체 웨이퍼 제조를 지원하기 위한 에너지 밀도, 유연성 및 모듈성이 요구되는 응용 분야에서 완벽한 솔루션을 제공합니다.
구리, 알루미늄, 탄탈룸, 티타늄, 그리고 신소재를 위한 반도체 및 디스플레이 제조에 이용되는 PVD공정의 DC발생기
생산성, 수율, 처리량 증대를 위한 정밀한 열 프로파일 및 고급 공정 제어 기능이 있는 고온계, 광섬유 온도계 및 SCR 사이리스터 전원 컨트롤러를 포함하는 열처리 장치
세미콘코리아는 1월 27일에서 29일까지 서울 삼성동 코엑스 전시회관에서 열립니다. Advanced Energy의 주요 제품들을 보시려면, A 홀 2712부스와 회사의 이벤트 웹페이지 http://www.advanced-energy.com/en/sck2016.html 를 방문해주세요.
Advanced Energy에 대하여
Advanced Energy (나스닥:AEIS)는 박막공정과 대량생산 분야의 정밀한 전력발생 및 제어기술을 가진 글로벌리더 입니다. Advanced Energy는 미국 콜로라도주 포트콜린스에 본사가 위치해 있으며, 세계 각지에 필요한 지원을 위해 각 지역별로 서비스 지사를 두고 있습니다.