Möchten Sie immer auf dem neuesten Stand bleiben?
Erstellen Sie noch heute ein Leserkonto, um die Branchen und Unternehmen zu verfolgen, die Sie interessieren, und passen Sie Ihr Nachrichten-Dashboard an.
-
SUNNYVALE, Californie, 30 juill. 2026 (GLOBE NEWSWIRE) -- Multibeam Corporation a annoncé ce jour avoir signé une lettre d’intention avec le département du Commerce des États-Unis portant sur un...
-
SUNNYVALE, Kalifornien, July 30, 2026 (GLOBE NEWSWIRE) -- Die Multibeam Corporation hat heute bekanntgegeben, eine Absichtserklärung mit dem US-Handelsministerium unterzeichnet zu haben. Vorgesehen...
-
カリフォルニア州サニーベール発, July 30, 2026 (GLOBE NEWSWIRE) -- マルチビーム (Multibeam Corporation) は本日、米国商務省 (U.S. Department of Commerce) と、CHIPS研究開発オフィス (CHIPS Research and Development Office) による1億4,000万ドル...
-
加州森尼維爾, July 30, 2026 (GLOBE NEWSWIRE) -- Multibeam Corporation 今日宣佈，公司已與美國商務部簽訂意向書，計劃從 CHIPS 研究與發展辦公室 (CHIPS Research and Development Office) 取得 1.4 億美元聯邦資助，以加快為美國晶片製造商開發新一代精細間距先進封裝製程。...
-
SUNNYVALE, Calif., July 29, 2026 (GLOBE NEWSWIRE) -- Multibeam Corporation announced today that the company has signed a Letter of Intent with the U.S. Department of Commerce for $140 million in...
-
SUNNYVALE, Californie, 24 juill. 2026 (GLOBE NEWSWIRE) -- Multibeam Corp. a annoncé ce jour que l’une des principales institutions de recherche au monde dédiée à la formation des talents de...
-
SUNNYVALE, Kalifornien, July 24, 2026 (GLOBE NEWSWIRE) -- Multibeam Corp. hat heute bekanntgegeben, dass die National Tsing Hua University (NTHU) in Taiwan – eine der weltweit führenden...
-
カリフォルニア州サニーベール発, July 24, 2026 (GLOBE NEWSWIRE) -- マルチビーム (Multibeam Corp.) は本日、半導体関係の人材育成に注力する世界有数の研究機関である台湾の国立清華大学 (National Tsing Hua University、NTHU) が、同大学の半導体研究学院 (College of Semiconductor...
-
加州森尼韋爾, July 24, 2026 (GLOBE NEWSWIRE) -- Multibeam Corp. 今日宣佈，作為全球頂尖半導體人才培訓研究機構的台灣國立清華大學 (National Tsing Hua University，NTHU)，已為其半導體研究學院 (CoSR) 訂購一套多柱式電子束微影 (EBL) 系統。NTHU...
-
Multibeam Secures First Taiwan Order for Newly Launched MBX Platform – The Company’s Second Generation Multi-Column E-Beam Lithography System